경진대회소개

변수설명


통합컬럼명 구분 컬럼명 상세컬럼명 타입 세부내용
원료 변수 시작원료anode buffer,cathode buffermaterial1ValueAnode_Cathode_Buffer_Material_1_ValueFLOATAnode, Cathode Buffer 층으로 구성된 원료등의 함량
anode buffer,cathode buffermaterial2ValueAnode_Cathode_Buffer_Material_2_ValueFLOAT
anode buffer,cathode buffermaterial3ValueAnode_Cathode_Buffer_Material_3_ValueFLOAT
anode buffermaterial4ValueAnode_Buffer_Material_4_ValueFLOATAnode Buffer층 구성 원료들의 함량
anode buffermaterial5ValueAnode_Buffer_Material_5_ValueFLOAT
anode buffermaterial6ValueAnode_Buffer_Material_6_ValueFLOAT
anodematerial7ValueAnode_Material_7_ValueFLOATAnode 양극층 구성 원료들의 함량
anodematerial8ValueAnode_Material_8_ValueFLOAT
anodematerial9ValueAnode_Material_9_ValueFLOAT
anodematerial10ValueAnode_Material_10_ValueFLOAT
anodematerial11ValueAnode_Material_11_ValueFLOAT
anodematerial12ValueAnode_Material_12_ValueFLOAT
anodematerial13ValueAnode_Material_13_ValueFLOAT
anodematerial14ValueAnode_Material_14_ValueINTEGER
anodematerial15ValueAnode_Material_15_ValueFLOAT
anodematerial16ValueAnode_Material_16_ValueFLOAT
anodematerial17ValueAnode_Material_17_ValueFLOAT
cathodematerial18ValueCathode_Material_18_ValueFLOATCathode 음극층 구성 원료들의 함량
cathodematerial19ValueCathode_Material_19_ValueFLOAT
cathodematerial20ValueCathode_Material_20_ValueFLOAT
cathodematerial21ValueCathode_Material_21_ValueFLOAT
cathodematerial22ValueCathode_Material_22_ValueFLOAT
cathodematerial23ValueCathode_Material_23_ValueFLOAT
cathodematerial24ValueCathode_Material_24_ValueINTEGER
cathodematerial25ValueCathode_Material_25_ValueFLOAT
cathodematerial26ValueCathode_Material_26_ValueFLOAT
cathodematerial27ValueCathode_Material_27_ValueFLOAT
cathodematerial28ValueCathode_Material_28_ValueFLOAT
공정_작업공정 변수 LB 공정 (Ball Milling)시료양01Sample_Amount_01INTEGER혼합할 원료 분말의 총량: 볼밀 공정에 투입되는 세라믹 분말의 전체 무게입니다.
지르코니아볼투입양01Zirconia_Ball_Input_Amount_01INTEGER분쇄용 지르코니아 볼의 무게. '분말 대 볼'의 무게비는 분쇄 효율에 큰 영향을 줍니다.
용매투입양01Solvent_Input_Amount_01INTEGER슬러리 제조용 용매의 양. 슬러리의 점도를 결정합니다.
혼합속도01Mixing_Speed_01INTEGER볼밀 용기 회전 속도. 분쇄 에너지의 크기를 결정합니다.
혼합시간01Mixing_Time_01INTEGER혼합 및 분쇄 진행 시간. 시간이 길수록 일반적으로 입자가 미세해집니다.
US 공정 (Ultrasonic Spray)기판온도01Substrate_Temperature_01INTEGER코팅될 기판의 표면 온도
Spray주입속도01Spray_Injection_Speed_01FLOAT노즐로 공급되는 슬러리 유량
캐리어가스압력01Carrier_Gas_Pressure_01INTEGER분무된 입자를 이송하는 가스의 압력
Spraygun속도01Spraygun_Speed_01INTEGER스프레이 건의 이동 속도
Spray주파수01Spray_Frequency_01INTEGER초음파 분무기의 작동 주파수
전극로딩양01Electrode_Loading_Amount_01FLOAT단위 면적당 코팅된 물질의 양
공정실온도01Process_Chamber_Temperature_01FLOAT스프레이 챔버 내부의 온도/습도: 코팅이 진행되는 공간의 환경 조건으로, 용매 증발 속도와 코팅 품질의 균일성에 영향을 줄 수 있습니다.
공정실습도01Process_Chamber_Humidity_01FLOAT
TT 공정 (Thermal Treatment)승온속도01Heating_Rate_01INTEGER최대 온도까지 올리는 속도
하강속도01Cooling_Rate_01INTEGER상온까지 냉각하는 속도
최대온도01Max_Temperature_01INTEGER소결이 일어나는 최고 유지 온도: 세라믹 입자들이 서로 결합하여 치밀한 구조를 형성하는 온도입니다. 재료의 종류에 따라 결정됩니다.
소결유지시간01Sintering_Hold_Time_01INTEGER최대 온도에서 유지하는 시간. 입자 성장과 기공 구조 제어에 영향을 줍니다.
소결분위기01Sintering_Atmosphere_01TEXT열처리 시 로 내부의 가스 종류
물성 변수 물성 측정값분극저항Polarization_ResistanceFLOAT연료의 산화(Anode) 및 산소의 환원(Cathode) 반응 시 발생하는 저항입니다.
오믹저항Ohmic_ResistanceFLOAT산소 이온이 전해질을 통해 이동하고, 전자가 전극과 집전체를 통해 이동할 때 발생하는 저항의 총합입니다.
최대출력밀도Max_Power_DensityFLOAT셀이 생산할 수 있는 최대의 전기 에너지 밀도입니다. SOFC의 핵심 성능 지표로, 이 값이 높을수록 우수한 성능의 셀입니다.
  • 원료 변수 (시작 원료)
  • anode buffer,cathode buffermaterial1Value [Anode_Cathode_Buffer_Material_1_Value, FLOAT] : Anode, Cathode Buffer 층으로 구성된 원료등의 함량
  • anode buffer,cathode buffermaterial2Value [Anode_Cathode_Buffer_Material_2_Value, FLOAT]
  • anode buffer,cathode buffermaterial3Value [Anode_Cathode_Buffer_Material_3_Value, FLOAT]
  • anode buffermaterial4Value [Anode_Buffer_Material_4_Value, FLOAT] : Anode Buffer층 구성 원료들의 함량
  • anode buffermaterial5Value [Anode_Buffer_Material_5_Value, FLOAT]
  • anode buffermaterial6Value [Anode_Buffer_Material_6_Value, FLOAT]
  • anodematerial7Value [Anode_Material_7_Value, FLOAT] : Anode 양극층 구성 원료들의 함량
  • anodematerial8Value [Anode_Material_8_Value, FLOAT]
  • anodematerial9Value [Anode_Material_9_Value, FLOAT]
  • anodematerial10Value [Anode_Material_10_Value, FLOAT]
  • anodematerial11Value [Anode_Material_11_Value, FLOAT]
  • anodematerial12Value [Anode_Material_12_Value, FLOAT]
  • anodematerial13Value [Anode_Material_13_Value, FLOAT]
  • anodematerial14Value [Anode_Material_14_Value, INTEGER]
  • anodematerial15Value [Anode_Material_15_Value, FLOAT]
  • anodematerial16Value [Anode_Material_16_Value, FLOAT]
  • anodematerial17Value [Anode_Material_17_Value, FLOAT]
  • cathodematerial18Value [Cathode_Material_18_Value, FLOAT] : Cathode 음극층 구성 원료들의 함량
  • cathodematerial19Value [Cathode_Material_19_Value, FLOAT]
  • cathodematerial20Value [Cathode_Material_20_Value, FLOAT]
  • cathodematerial21Value [Cathode_Material_21_Value, FLOAT]
  • cathodematerial22Value [Cathode_Material_22_Value, FLOAT]
  • cathodematerial23Value [Cathode_Material_23_Value, FLOAT]
  • cathodematerial24Value [Cathode_Material_24_Value, INTEGER]
  • cathodematerial25Value [Cathode_Material_25_Value, FLOAT]
  • cathodematerial26Value [Cathode_Material_26_Value, FLOAT]
  • cathodematerial27Value [Cathode_Material_27_Value, FLOAT]
  • cathodematerial28Value [Cathode_Material_28_Value, FLOAT]
  • LB 공정 (Ball Milling)
  • 시료양01 [Sample_Amount_01, INTEGER] : 혼합할 원료 분말의 총량 (볼밀 공정에 투입되는 세라믹 분말의 전체 무게)
  • 지르코니아볼투입양01 [Zirconia_Ball_Input_Amount_01, INTEGER] : 분쇄용 지르코니아 볼의 무게 ('분말 대 볼' 무게비는 분쇄 효율 큰 영향)
  • 용매투입양01 [Solvent_Input_Amount_01, INTEGER] : 슬러리 제조용 용매의 양 (점도 결정)
  • 혼합속도01 [Mixing_Speed_01, INTEGER] : 볼밀 용기 회전 속도 (분쇄 에너지 크기 결정)
  • 혼합시간01 [Mixing_Time_01, INTEGER] : 혼합, 분쇄 진행 시간 (길수록 입자 미세화)
  • US 공정 (Ultrasonic Spray)
  • 기판온도01 [Substrate_Temperature_01, INTEGER] : 코팅될 기판의 표면 온도
  • Spray주입속도01 [Spray_Injection_Speed_01, FLOAT] : 노즐로 공급 슬러리 유량
  • 캐리어가스압력01 [Carrier_Gas_Pressure_01, INTEGER] : 분무된 입자 이송 가스압력
  • Spraygun속도01 [Spraygun_Speed_01, INTEGER] : 스프레이건 이동 속도
  • Spray주파수01 [Spray_Frequency_01, INTEGER] : 초음파 분무기 작동 주파수
  • 전극로딩양01 [Electrode_Loading_Amount_01, FLOAT] : 단위 면적당 코팅 물질의 양
  • 공정실온도01 [Process_Chamber_Temperature_01, FLOAT] : 스프레이 챔버의 환경 온도/습도 (용매 증발 속도, 코팅 균일성 결정)
  • 공정실습도01 [Process_Chamber_Humidity_01, FLOAT]
  • TT 공정 (Thermal Treatment)
  • 승온속도01 [Heating_Rate_01, INTEGER] : 최대 온도까지 올리는 속도
  • 하강속도01 [Cooling_Rate_01, INTEGER] : 상온까지 냉각 속도
  • 최대온도01 [Max_Temperature_01, INTEGER] : 소결이 일어나는 최고 온도 (치밀한 구조, 재료 성질 결정)
  • 소결유지시간01 [Sintering_Hold_Time_01, INTEGER] : 최대 온도 유지 시간 (입자 성장, 기공 구조)
  • 소결분위기01 [Sintering_Atmosphere_01, TEXT] : 열처리 로 내부 가스 종류
  • 물성 측정값
  • 분극저항 [Polarization_Resistance, FLOAT] : 연료 산화/산소 환원 반응 저항
  • 오믹저항 [Ohmic_Resistance, FLOAT] : 산소 이온, 전자 이동 전체 저항
  • 최대출력밀도 [Max_Power_Density, FLOAT] : 셀이 생산할 수 있는 최대 전기 에너지 밀도 (SOFC 핵심 성능지표)